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发明名称 CHEMICAL VAPOR DEPOSITION SYSTEM
摘要
申请公布号 JPH05267182(A) 申请公布日期 1993.10.15
申请号 JP19920060513 申请日期 1992.03.17
申请人 发明人
分类号 H01L21/205;H01L21/31;(IPC1-7):H01L21/205 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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