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发明名称 Apparatus for gas source molecular beam epitaxy
摘要
申请公布号 US5252131(A) 申请公布日期 1993.10.12
申请号 US19920864764 申请日期 1992.04.07
申请人 DAIDOUSANSO CO., LTD. 发明人 KIYAMA, HIROMI;OKUMURA, KENJI;OKU, HIDEHIKO
分类号 C30B23/08;C23C16/44;C23C16/48;C30B25/02;C30B25/10;C30B25/14;H01L21/203;(IPC1-7):C23C14/00 主分类号 C30B23/08
代理机构 代理人
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