| 摘要 |
<p>En anordning for skjerming av en flerhet av inn- stillingsflater (14, 30) på en skive og et holdebord (26) for skiven mot skadelig virkninger fra en kjemisk etseprosess innbefatter et par etseskjermer (32, 32') som er anbragt langs en ytterkant av skiven (10). Skiven (10) blir innstilt på holdebordet (26) for skiven med innstllllngsflater (14, 30). Holdebordet (26) for skiven og dermed også skiven (10) dreier seg om en akse (36) gjennom sentrum av skiven (10). En sonde (18) for et kjemisk etseinstrument føres i forhold til skiven (10) langs en fast skivedlameter (34) mens skiven (10) roterer. Sonden (18) blir først stilt inn over en første etseskjerm (32') og beveges l forhold til skiven (10) langs skivediameteren (34) Inntil den når en andre etseskjerm (32). Dermed vil sonden (18) avsøke hele overflaten av skiven (10) uten å komme utenfor sklvens kanter noe som ville ha virket skadelig Inn på materialene (14, 26, 30) til fast- holdelse av skiven.</p> |
