发明名称 COMPOSICION DE RESINA FOTOSENSIBLE Y METODO PARA PREPARAR UN PATRON DE CAPA PROTECTORA PARA CIRCUITOS IMPRESOS A PARTIR DE DICHA COMPOSICION
摘要 La presente invención se refiere a una composición de resina fotosensible, de un solo componente fotosensible, caracterizado porque comprende (a) al menos un compuesto que tiene uno o más grupos de carboxilio, (b) al menos un compuesto que tiene dos o más funcionalidades insaturadas etilenicamente, (c) al menos un compuesto que tiene dos o más grupos epoxilio, (d) un catalizador para curado de epoxilio, latente, y (e) un indicador de fotopolimerización.
申请公布号 MX170891(B) 申请公布日期 1993.09.21
申请号 MX19900023724 申请日期 1990.12.13
申请人 W.R. GRACE &CO-CONN 发明人 KATSUE NISHIKAWA;HSI-CHUAN TSAI
分类号 G03F7/027;G03F7/028;G03F7/033;H05K3/28;(IPC1-7):C08L23/06;C08L33/08 主分类号 G03F7/027
代理机构 代理人
主权项
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