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发明名称 ION IMPLANTATION DEVICE USED FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 JPH05243172(A) 申请公布日期 1993.09.21
申请号 JP19920045106 申请日期 1992.03.03
申请人 NEC YAMAGATA LTD 发明人 SAITO TAKASHI
分类号 H01J37/317;H01L21/265;(IPC1-7):H01L21/265 主分类号 H01J37/317
代理机构 代理人
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