| 主权项 |
1﹒一种聚合物掺合物,其至少包括(A)及(B)二成分, 其中(A)为环 烯烃聚合物,其含有30─60莫耳%衍生自式I之单体的 结构单元式中 R1,R2,R3及R4相同或相异且为氢原子或C1─C8─烷基 及4 0─70莫耳%衍生自式VIII之无环1─烯烃结构单元其 中R9,R 10,R11及R12相同或不同,且为氢或C1─C8烷基,且其部 分 地或全部地经0至5%重之选自包括(a),─未饱和 羧酸及其衍生 物及(b)苯乙烯之群中之至少一种单体接枝改质,且 其中(B)成分是 聚缩醛,此掺合物含有1到99%重之A及99到1%重之(B),(A )及(B)相对于总掺合物达100%重。 2﹒如申请专利范围第1项之聚合物掺合物,其中环 烯烃聚合物(A)以选自 包括(a),─未饱和羧酸及其衍生物及(b)苯乙烯 之群中之至少 一种单体接枝改质。 3﹒如申请专利范围第1项之聚合物掺合物,其中环 烯烃聚合物(A)为式I 多环烯烃与至少一种式VIII之无环烯烃的共聚物。 4﹒如申请专利范围第3项之聚合物掺合物,其中环 烯烃聚合物(A)为原冰 片烯与乙烯之共聚物。 5﹒如申请专利范围第1项之聚合物掺合物,其中聚 缩醛(B)包括量为80 ─100%重之氧化伸甲基结构单元[─CH2─O─]。 6﹒如申请专利范围第5项之聚合物掺合物,其中聚 缩醛(B)包括,除了氧 化伸甲基结构单元外,由选自含有(a)具3,4或5环数 之环醚,b) 具5至11环敏之除了三─或四恶烷之环缩醛及c)直 链聚缩醛之群之共 聚单体衍生之结构单元。 7﹒如申请专利范围第6项之聚合物掺合物,其中氧 化伸甲基单元之量为99 ﹒5至95%重且衍生自所述共聚单体之结构单元量为 0﹒5至5%量, 其条件为各量构成100%重。 8﹒如申请专利范围第7项之聚合物掺合物,其中聚 缩醛(b)包括氧化伸甲 基结构单元及氧化伸乙基结构单元。 9﹒如申请专利范围第1项之聚合物掺合物,其中,环 烯烃聚合物(A)为具 下式结构单元之共聚物且聚缩醛(B)为具下式结构 单元之共聚物。 10﹒如申请专利范围第1至9项中任一项之聚合物掺 合物,其另包括以至少 一种选自含有),─未饱和羧酸及其衍生物 和b)苯乙烯之群中 之单体将环烯烃聚合物(A)接枝改质。 11﹒如申请专利范围第9项之聚合物掺合物其另包 括以马来酐接枝改质之环 烯烃共聚物(A)。 12﹒如申请专利范围第1项之聚合物掺合物,其中环 烯烃聚合物(A)为以 马来酐接枝改质之环烯烃共聚物(A),且聚缩醛(B)为 具下式结构 单元之共聚物13﹒如申请专利范围第1项之聚合物 掺合物,其用为复 合材料之基质或用于产制成型品。 |
