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发明名称 WAFER HEAT TREATMENT EQUIPMENT AND ITS METHOD
摘要
申请公布号 JPH05234922(A) 申请公布日期 1993.09.10
申请号 JP19920072686 申请日期 1992.02.21
申请人 SONY CORP 发明人 SAKASHITA NOBUO
分类号 H01L21/22;(IPC1-7):H01L21/22 主分类号 H01L21/22
代理机构 代理人
主权项
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