发明名称 |
通过界外图形分析的涂层缺陷检测系统 |
摘要 |
本发明的缺陷检测系统(10)将一个或多个正交配置的光束(54和56)照射到被涂覆光纤(32)上,从而使光通过光纤及其涂层(31)的整个宽度。光通过光纤和质量良好的涂层时,照射入被涂覆光纤中的光束的前向散射部分产生一特定的、光强度级可预测的图形。涂层中的各种缺陷会使光通过被涂覆光纤的光程改变,从而使某些胶向散射光在正常预期的图形外的光强增加。本发明精确可靠地检测出在光纤的涂层中象空气泡之类短暂出现的缺陷。 |
申请公布号 |
CN1076028A |
申请公布日期 |
1993.09.08 |
申请号 |
CN93101802.1 |
申请日期 |
1993.02.12 |
申请人 |
美国电话电报公司 |
发明人 |
R·E·弗拉齐;C·R·拉夫雷斯;D·H·史密思加尔 |
分类号 |
G01N21/88;G01B11/30 |
主分类号 |
G01N21/88 |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
肖掬吕;张志醒 |
主权项 |
1、一种涂层内的缺陷检测系统,其特征在于它具有下列装置:照射装置,用以用光照射被涂覆纤维,从而产生预期的前向散射图形,该图形表示光照射入质量合格的涂层时的前向光程和强度;和监视装置,用以监视预期的前向散射图形附近的光强度级,光强度级增加则表示涂层内有缺陷存在。 |
地址 |
美国纽约州 |