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发明名称 EXCIMER LASER EXPOSURE METHOD
摘要
申请公布号 JPH05217832(A) 申请公布日期 1993.08.27
申请号 JP19920040727 申请日期 1992.01.31
申请人 MATSUSHITA ELECTRIC IND CO LTD 发明人 IWABUCHI TAKASHI;NAKAMURA KUNIO;HASHIDATE YUUJI;MUTO KATSUHIKO;YAMADA YUKA;FURUYA NOBUAKI
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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