GAS-BASED SUBSTRATE PROTECTION DURING PROCESSING,申请号US19910678579-传众专利搜索

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法人/股东/高管

发明名称	GAS-BASED SUBSTRATE PROTECTION DURING PROCESSING
摘要
申请公布号	US5238499(A)	申请公布日期	1993.08.24
申请号	US19910678579	申请日期	1991.03.25
申请人	NOVELLUS SYSTEMS, INC.	发明人	VAN DE VEN, EVERHARDUS P.;BROADBENT, ELIOT K.;BENZING, JEFFREY C.;CHIN, BARRY L.;BURKHART, CHRISTOPHER W.
分类号	H01L21/205;C23C16/04;C23C16/44;C23C16/455;C23C16/458;C23C16/54;H01L21/00;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/31;H01L21/683;H01L21/687	主分类号	H01L21/205
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