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发明名称 VERFAHREN ZUR PLASMAABLAGERUNG VON SILICIUMNITRID- UND SILICIUMDIOXID-FILMEN AUF EINEM SUBSTRAT.
摘要
申请公布号 DE68904308(T2) 申请公布日期 1993.08.19
申请号 DE19896004308T 申请日期 1989.05.22
申请人 OLIN CORP., CHESHIRE, CONN., US 发明人 DORY, S., THOMAS, NEW HAVEN, CT 06513, US
分类号 B05B3/02;B05B3/06;C23C16/34;C23C16/40;(IPC1-7):B05B3/02 主分类号 B05B3/02
代理机构 代理人
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