发明名称 PROCESS FOR DEVELOPING AND ETCHING COMPOUND LAYERS OF PHOTORESIST AND POLYIMIDESIMULTANEOUSLY
摘要
申请公布号 GB2263981(A) 申请公布日期 1993.08.11
申请号 GB19930002508 申请日期 1993.02.09
申请人 * E I DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY 发明人 MARION * WEIGAND;NEVILLE * EILBECK
分类号 G03F7/32 主分类号 G03F7/32
代理机构 代理人
主权项
地址