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发明名称
PROCESS FOR DEVELOPING AND ETCHING COMPOUND LAYERS OF PHOTORESIST AND POLYIMIDESIMULTANEOUSLY
摘要
申请公布号
GB2263981(A)
申请公布日期
1993.08.11
申请号
GB19930002508
申请日期
1993.02.09
申请人
* E I DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY
发明人
MARION * WEIGAND;NEVILLE * EILBECK
分类号
G03F7/32
主分类号
G03F7/32
代理机构
代理人
主权项
地址
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