| 发明名称 |
HETEROCYCLIC ORGANOMETALLIC COMPOUNDS |
| 摘要 |
The invention relates to heterocyclic organometallic compounds formula I below and to the use thereof for the production of thin films and layers on substrates by gas phase deposition. <IMAGE> I
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| 申请公布号 |
US5235078(A) |
申请公布日期 |
1993.08.10 |
| 申请号 |
US19900626054 |
申请日期 |
1990.12.12 |
| 申请人 |
MERCK PATENT GESELLSCHAFT MIT BESCHRANKTER HAFTUNG |
发明人 |
POHL, LUDWIG;HOSTALEK, MARTIN;LOKAI, MATTHIAS |
| 分类号 |
C30B29/40;C07F5/00;C07F5/06;C07F9/6596;C07F9/80;C23C16/18;C23C16/30 |
主分类号 |
C30B29/40 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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