| 发明名称 |
COMPOUNDS WHICH CAN BE CLEAVED WITH ACID, POSITIVE RADIATION-SENSITIVE MIXTURES CONTAINING THESE COMPOUNDS, AND RADIATION-SENSITIVE RECORDING MATERIAL PRODUCED FROM THIS MIXTURE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH05194357(A) |
申请公布日期 |
1993.08.03 |
| 申请号 |
JP19920124077 |
申请日期 |
1992.04.17 |
| 申请人 |
HOECHST AG |
发明人 |
GEORUKU PAUROSUKII;HORUSUTO RESHIERUTO;WARUTAA SHIYUPIISU;RARUFU DAMERU |
| 分类号 |
C09K11/00;C07C235/08;C07C271/16;C07C275/04;C07C275/24;C07C275/28;C07C323/10;C07D317/54;C08G69/00;C08G71/00;G01D15/14;G03F7/004;G03F7/039 |
主分类号 |
C09K11/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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