| 发明名称 |
REAKTIV GASS FOR PLASMA-ASSISTERT ETSING OG FREMGANGSMAATEFOR STABIL ETSING AV SUBSTRATER OVER KANTER |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
NO930155(A) |
申请公布日期 |
1993.08.02 |
| 申请号 |
NO19930000155 |
申请日期 |
1993.01.18 |
| 申请人 |
HUGHES AIRCRAFT COMPANY |
发明人 |
BOLLINGER, LYNN D.;STEINBERG, GEORGE N. |
| 分类号 |
C23F4/00;H01L21/306;H01L21/3065;(IPC1-7):H05H1/00 |
主分类号 |
C23F4/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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