发明名称 |
TREATMENT DEVICE OF SEMICONDUCTOR WAFER |
摘要 |
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申请公布号 |
JPH05190651(A) |
申请公布日期 |
1993.07.30 |
申请号 |
JP19920023402 |
申请日期 |
1992.01.14 |
申请人 |
TOKYO ELECTRON SAGAMI LTD |
发明人 |
OKASE WATARU |
分类号 |
B23Q7/16;B65H5/04;H01L21/02;H01L21/677;H01L21/68 |
主分类号 |
B23Q7/16 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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