| 摘要 |
<p>Pellicule de masque de configuration comprenant un cadre périphérique, un film transparent s'étendant à travers la surface périphérique supérieure du cadre et un joint périphérique adhérant à la surface périphérique inférieure du cadre; l'ensemble formé par le cadre et par le joint comprend au moins un passage adhésif, continu et tortueux reliant une ouverture située dans la paroi intérieure de l'ensemble et une ouverture située dans la paroi extérieure dudit ensemble. Au moins une pellicule est montée sur un substrat à masque de configuration, afin de protéger la zone de configuration pendant la formation des images dans la fabrication de circuits intégrés.</p> |
