发明名称 青色素混合物,水性青色印水组成物及喷印记录方法
摘要 本发明乃有关青色素混合物,含有上述混合物之印水组成物以及使用该组成物之喷印记录方法。据本发明方法所得印刷物具有放置在通风良好的阴暗处或放置在臭氧气体环境下,仍很少变褪色之特征。该青色素混合物乃系将原料之铜青或其磺酸化化合物加以氯磺化后,再行胺基化之际,对1莫耳之原料使用2.5莫耳以上比率之胺基化剂进行反应而得之化合物,而且该化合物可藉下列式(1)表示之。(式中,M示质子、硷金属离子、硷土金属离子、有机胺之离子或铵离子。m示1至4之整数,n示0至3之整数,且m+n示1至4之整数,不包括m+n=3之情形。)
申请公布号 TWI290946 申请公布日期 2007.12.11
申请号 TW090117994 申请日期 2001.07.24
申请人 化药股份有限公司 发明人 北山弘和;难波晋一;藤井隆文;小谷淳二;吉冈纯子;白崎康夫
分类号 C09B47/26(2006.01);C09D11/00(2006.01);B41M5/00(2006.01) 主分类号 C09B47/26(2006.01)
代理机构 代理人 洪武雄 台北市中正区博爱路35号9楼;陈昭诚 台北市中正区博爱路35号9楼
主权项 1.一种青色素混合物,系由下式(1)所示化合物之混 合物所构成: (式中,M示硷金属离子、硷土金属离子、有机胺之 离子或铵离子,m示1至4之整数,n示0至3之整数,且m +n示1至4之整数,不包括n+m=3之情形), 该化合物系将铜青氯磺化(chlorosulfonation)之后, 醯胺化(amidation)之际,对1莫耳量之原料铜青化合 物,使用2.5莫耳量以上比率之胺化剂进行反应所得 之化合物,且该化合物系上式(1)所示之化合物。 2.一种式(1)所示之青色素混合物, (式中,M示硷金属离子、硷土金属离子、有机胺之 离子或铵离子,m示1至4之整数,n示0至3之整数,且m +n示1至4之整数,不包括n+m=3之情形), 该青色素混合物之特征为使下式(2)所示之化合物 (式中,M示硷金属离子、硷土金属离子、有机胺之 离子或铵离子,s示2至4之整数) 与氯化剂反应,将磺酸基加以氯磺化,继之,对1莫耳 量之式(2)所示化合物使用2.5莫耳量以上比率之胺 化剂反应而得者。 3.一种青色素混合物,系下式(1)所示之化合物, (式中,M示硷金属离子、硷土金属离子、有机胺之 离子或铵离子,m示1至4之整数,n示0至3之整数,且m +n示1至4之整数,不包括m+n=3之情形), 且在水中调整为0.01g/l浓度时,其分光光度计所测 定之吸收曲线中,波长590至630nm范围有max存在,而 在波长640至670nm范围内无吸收峰者。 4.如申请专利范围第1项或第2项之青色素混合物, 系含有于N,N-二甲基甲醯胺中,当吸光度由1调整为2 Abs时,分光光度计之吸收曲线在波长615至640nm范围 和640至655nm范围具有吸收峰之化合物。 5.如申请专利范围第1项或第2项之青色素混合物, 系含有于N,N-二甲基甲醯胺中,当吸光度由1调整为2 Abs时,分光光度计所示吸收曲线中,以615至640nm之 吸收峰之波长为C,而波长655至680nm之吸收峰之波长 为D时,其D-C値为48nm以下之化合物。 6.如申请专利范围第1项或第2项之青色素混合物, 其中以具有光电二极管数组检波器之高速液态层 析仪(展开溶剂:乙/磷酸二氢铵水溶液)测定时, 在波长640至670nm处具有max之成分之面积百分率 之总计,在检定波长254nm下占整体之50%以下者。 7.如申请专利范围第1项或第2项之青色素混合物, 其中以具有光电二极管数组检波器之高速液态层 析仪(展开溶剂:乙/磷酸二氢铵水溶液)测定时, 以波长590至630nm间之吸收峰之吸光度为A,而以波长 640至670nm间之吸收峰之吸光度为B之际,所检出所有 成分之吸光度之和分别以A、B表示时,B/A 之値在1以下者。 8.如申请专利范围第1项或第2项之青色素混合物, 其中以具有光电二极管数组检波器之高速液态层 析仪(展开溶剂:乙/磷酸二氢铵水溶液)测定时, 当波长590至630nm间之吸收峰之吸光度为A,而波长640 至670nm间之吸收峰之吸光度为B时,仅由具有B/A値在 1以下成分之化合物所构成者。 9.一种水性青色印水组成物,其特征为含有申请专 利范围第1项至第8项中任意一项之青色素混合物, 而相对于组成物总量100份,该青色素混合物之含量 为0.5至7.0份。 10.一种申请专利范围第1项或第2项之青色素混合 物之精制方法,其特征为将含有如申请专利范围第 1项或第2项之青色素混合物之溶液,在pH 7至11范围 内进行盐析,而降低以分光光度计测定时,640至670nm 间之吸光度之方法。 11.一种申请专利范围第1项或第2项之青色素混合 物之精制方法,其特征为将申请专利范围第1项或 第2项之青色素混合物搅拌悬浊在含有水之甲醇、 乙醇或2-丙醇中,继之过滤而降低以分光光度计测 定时,640至670nm间之吸光度之方法。 12.一种水性青色印水组成物,其特征系含有以申请 专利范围第10项或第11项之方法所精制之申请专利 范围第1项或第2项之青色素混合物,而相对于组成 物总量100份,该青色素混合物之含量为0.5至7.0份。 13.如申请专利范围第9项或第12项之水性青色印水 组成物,系喷印记录用者。 14.一种水性青色印水组成物套剂,其特征为使用申 请专利范围第9项、第12项或第13项之水性青色印 水组成物调制两种浓度之印水,高浓度之印水调整 在2.5至7重量%浓度,低浓度之印水调整在0.5至2.5重 量%浓度而构成。 15.一种喷印记录方法,其特征系于使印水滴随记录 信号喷出,藉以在被记录材料上进行记录之喷印式 记录方法中,使用申请专利范围第9项、第12项或第 13项中任意一项之水性青色印水组成物做为印水 之喷印式记录方法。 16.如申请专利范围第15项之喷印记录方法,其中被 记录材料系资讯传递用薄片者。 17.如申请专利范围第15项之喷印记录方法,其中被 记录材料系以由无机物和聚合物所成组群中选择 之至少一种进行表面处理之资讯传递用薄片。 18.如申请专利范围第15项之喷印记录方法,其中被 记录材料系以由二氧化矽、氧化铝和陶磁所成组 群中至少选择一种之无机物进行表面处理之资讯 传递用薄片。 19.如申请专利范围第15项之喷印记录方法,其中被 记录材料系以由亲水性聚合物、丙烯酸系聚合物 和聚氨基甲酸酯系聚合物所成组群中至少选择一 种之聚合物进行表面处理之资讯传递用薄片。 20.如申请专利范围第15项之喷印记录方法,其中被 记录材料系以由聚乙烯醇和聚乙烯咯烷酮所成 组群中至少选择一种之亲水性聚合物进行表面处 理之资讯传递用薄片。 21.一种含有水性青色印水组成物之容器,其特征为 组成物系申请专利范围第9项、第12项或第13项中 任意一项之水性青色印水组成物。 22.一种喷印印表机,其特征为具有申请专利范围第 21项之容器。 23.一种青色素混合物,其特征为含有下式(1)所示之 化合物: (式中,M示硷金属离子、硷土金属离子、有机胺之 离子或铵离子,m示1至4之整数,n示0至3之整数,且m +n示1至4之整数,不包括m+n=3之情形),且系于N,N-二甲 基甲醯胺中,将吸光度由1调整至2Abs时,其分光光度 计所测吸收曲线中,在615至640nm范围和655至680nm范 围具有吸收峰,以615至640nm之吸收峰之波长为C,而 以655至680nm间之吸收峰之波长为D时,其D-C値在48nm 以下之化合物。 图式简单说明: 第1图示实施例7中pH10之盐析滤液之吸收曲线。 第2图示实施例8中pH7之盐析滤液之吸收曲线。 第3图示实施例9中pH2之盐析滤液之吸收曲线。 第4图示实施例10中甲醇滤液之吸收曲线。 第5图示实施例4(以实线表示)和Projet Cyanl(比较例, 以虚线表示),在水中调整其浓度为0.01g/l时以分光 光度计所测定之吸收曲线。 第6图示实施例1、4和11所得色素混合物在N,N-二甲 基甲醯胺中之吸收曲线。 第7图示比较例1在N,N-二甲基甲醯胺中之吸收曲线 。 第8图示实施例1之色素混合物藉高速液态层析法 所测定之资料。 第9图示实施例4之色素混合物藉高速液态层析法 所测定之资料。 第10图示实施例7之色素混合物藉高速液态层析法 所测定之资料。 第11图示色素Projet Cyanl(比较例1,阿比西亚公司制 品)藉高速液态层析法所测定之资料。 第12图示放置于臭氧气体下,和变褪色性(E) 之相关曲线。
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