回流方法、图案形成方法及薄膜电晶体之制造方法

摘要

[课题]在回流处理中，加进光阻剂的流动，提升生产量的同时，在被处理体的面内调整回流的行进速度。[解决手段]在步骤S7之回流处理前，在步骤S6进行局部性UV照射处理。未以源极电极用光罩210及汲极电极用光罩211覆盖的下层膜之表面藉由UV照射处理而改质，在接着进行的回流处理之际，光阻剂为易流动的状态，就能在较短的制程时间结束回流处理之同时，可在基板面内调整光阻剂的流动速度。