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经营范围
发明名称
PLASMA DEPOSITION APPARATUS FOR SUBSTRATE AND METHOD AT THE SAME
摘要
申请公布号
KR100853626(B1)
申请公布日期
2008.08.25
申请号
KR20060136938
申请日期
2006.12.28
申请人
发明人
分类号
H01L21/205
主分类号
H01L21/205
代理机构
代理人
主权项
地址
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