首页
产品
黄页
商标
征信
会员服务
注册
登录
全部
|
企业名
|
法人/股东/高管
|
品牌/产品
|
地址
|
经营范围
发明名称
PLASMA PROCESSING DEVICE
摘要
申请公布号
JPH05144595(A)
申请公布日期
1993.06.11
申请号
JP19910333922
申请日期
1991.11.22
申请人
SEMICONDUCTOR ENERGY LAB CO LTD
发明人
FUKADA TAKESHI;SAKAMA MITSUNORI;ICHIJO MITSUHIRO;ABE HISASHI;YAMAZAKI SHUNPEI
分类号
C23C16/50;H01L21/205;H05H1/46
主分类号
C23C16/50
代理机构
代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
测试方法及装置
通过移动终端获取信息的方法及系统设备
在线交易系统数据一致性的方法及系统
识别号检索系统以及识别号检索方法
一种阻水耐火电缆
一种基于动机模式分析的口令审计方法
操作图片的方法及装置
集成电路和用于制造在集成电路内的至少一个晶体管的方法
检测人员使用手持装置的方法及装置
自助设备、自动交易系统及其计数方法
光动能指纹识别模块
一种字符识别方法及装置
具有用于嵌入锗材料的成形腔的半导体器件及其制造工艺
基板处理方法和基板处理装置
一种对版图进行DRC验证的方法
数据交互系统
卡套
行程开关组装机的触头上料机构
二氨基苯功能化石墨烯掺杂的活性炭复合电极、制备及其在电吸附脱盐上的应用
具有预留空间的三维掩膜编程只读存储器