发明名称 COMPOSICION DE REVESTIMIENTO FOTOSENCIBLE Y METODO PARA PARA LA PREPARACION DE UN POLIMERO SENSIBLE A LA RADIACION ULTRAVIOLETA
摘要 La presente invención se refiere a una composición de revestimiento fotoreproducible o fotosencible caracterizada porque comprende un polímero seleccionado a partir del grupo que consiste de un dimetacrilato de uretano carboxilado, un diacrilato de uretano carboxilado, un triacrilado triaquilato de uretano carboxilado, y un trimetacrilato de uretano carboxilado; el polímero sencible a la radiación ultravioleta se prepara condensando una mezcla de reaccion que comprende (a) un diisiocianato que tiene desde 6 hasta 18 átomos de carbono, el componente (b), un poliol de ácido carboxílico que tiene la formula [OH] x-R6-COOH; en la que x puede ser un entero de 2 a 5, y en la que R6 es una fracción de hidrocarburo lineal o ramificado, saturada, insaturada o aromática que tiene desde 2 hasta 29 átomos de carbono y el componente (c), un miembro seleccionad a partir del grupo que consiste de un diacrilato de hidroxialquilo, un diametacrilato de hidroxialquilo, un triacrilato de hidroxialquilo, y un hidroxialquiltrimetacrilato. en el que cada alquilo tiene desde 2 hasta 28 átomos de carbono; siempre y cuando el com`ponente (a) esté presente en una cantidad de desde aproximadamente 30 hasta aproximadamente 80 por ciento por peso de la cantidad total de la mezcla de reacción; el componente (b) esté presente con una cantidad de desde aproximadamente 5 hasta aproximadamente 45 por ciento por peso de la cantidad total de la mezcla de reacción con un mínimo de 0.5 miliequivalentes de acrilato por gramo de la cantidad total de la mezcla de reacción.
申请公布号 MX168832(B) 申请公布日期 1993.06.10
申请号 MX19870009667 申请日期 1987.12.08
申请人 ARMSTRONG WORLD INDUSTRIES,INC 发明人 SONGVIT SETTHACHAYANON
分类号 C08F2/48;C08F299/06;C08G18/34;C08G18/67;G03F7/035;(IPC1-7):C09D175/04;C08J7/06 主分类号 C08F2/48
代理机构 代理人
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