| 发明名称 | 记录介质及其制造方法、记录介质的母盘及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种记录介质及其制造方法、记录介质的母盘及其制造方法。该记录介质具有：具有第一区和第二区的基板，该第一区中形成有第一凹槽，该第二区中形成有第二凹槽；设置在基板上的至少一个信息层；设置在信息层上的保护层。预定的二进制信息预先记录在第一凹槽上，且第一凹槽比第二凹槽浅或窄。 | ||
| 申请公布号 | CN101329883A | 申请公布日期 | 2008.12.24 |
| 申请号 | CN200810128534.7 | 申请日期 | 2008.06.19 |
| 申请人 | 索尼株式会社 | 发明人 | 诹访部正次;高瀬史则 |
| 分类号 | G11B7/24(2006.01);G11B7/242(2006.01);G11B7/26(2006.01) | 主分类号 | G11B7/24(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 彭久云 |
| 主权项 | 1、一种记录介质，包括：具有第一区和第二区的基板，所述第一区中形成有第一凹槽，所述第二区中形成有第二凹槽；设置在所述基板上的至少一个信息层；以及设置在所述信息层上的保护层，其中预定的二进制信息预先记录在所述第一凹槽上，以及所述第一凹槽比所述第二凹槽浅或窄。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||