具高蚀刻抗性之光阻组成物

摘要

本发明提供包括由预定化学式表示之重复单位之第一聚合物，(b)包括由预定化学式表示之重复单位之第二聚合物，(c)光酸产生剂(PAG)，及(d)溶剂。光阻组成物具有绝佳乾蚀刻抗性及绝佳对底层之黏着特性以及对具有超短波长区之曝光源之良好微影术效能。