SHIELDING FOR ARC SUPPRESSION IN ROTATING MAGNETRON SPUTTERING SYSTEMS.

摘要

Element de cathode (12) pour une magnétron cylindrique rotatif (10) dans lequel le magnétron produit une zone de pulvérisation cathodique s'étendant sur la longueur de l'élément de cathode (12) et circonférentiellement autour d'une zone relativement étroite de ce dernier. L'élément de cathode (12) comprend un élément tubulaire de forme allongée (14) doté d'un matériau cible (16) sur sa surface externe. Un collier (32) réalisé dans un matériau électroconducteur se situe au niveau d'au moins une extrémité de l'élément tubulaire (14), et s'étend sur l'élément tubulaire (14) depuis ladite extrémité jusque dans la zone d'érosion. Un manchon réalisé dans un matériau électroconducteur peut s'étendre circonférentiellement autour du collier (32).