半導体素子の製造方法

摘要

透光性基板（１１）上に透明導電膜（１２）を形成した透明導電性基板（１）を洗浄を行わずにプラズマ装置の反応室内に搬入し（工程（ａ））、ＣＨ４ガスおよびＨ２ガスを用いたプラズマによって透明導電膜（１２）を処理する（工程（ｂ））。工程（ｂ）の後、半導体素子を透明導電膜（１２）上に順次積層し（工程（ｃ），（ｄ））、半導体素子（１０）を製造する（工程（ｅ））。