首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 RADIATION-SENSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR EXPOSURE TO DEEP ULTRAVIOLET RADIATION
摘要
申请公布号 EP0332158(B1) 申请公布日期 1993.05.26
申请号 EP19890104056 申请日期 1989.03.08
申请人 HOECHST CELANESE CORPORATION 发明人 USIFER, DOUGLAS A.;KELLY, MICHAEL G.
分类号 G03F7/004;G03F7/039 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com