| 发明名称 |
Deposition of non-conductive material using D.C. biased, thermionically enhanced, plasma assisted PVD |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
GB2261226(A) |
申请公布日期 |
1993.05.12 |
| 申请号 |
GB19910023798 |
申请日期 |
1991.11.08 |
| 申请人 |
* THE UNIVERSITY OF HULL |
发明人 |
ALLAN * MATTHEWS;ADRIAN STANLEY * JAMES;KEVIN STEVEN * FANCEY;ADRIAN * LEYLAND |
| 分类号 |
C23C14/08;C23C14/32;C23C14/58 |
主分类号 |
C23C14/08 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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