用于精密光学系统或光学部件的无放射性特别是无FCKW的清洗方法

摘要

一种用于精密光学系统的无放射性清洗方法，包括以下步骤：(a)预处理过程，以建立了槽的环流及精过滤；(b)借助于紫外线辐射或高加速度电子或辉光放电，在一定压力的O₂或O₃气氛下，将有机杂质和表面活性剂残余物分解为CO₂；(c)检查玻璃光学部件的界面与有机基反应的情况、玻璃表面上分解反应或表面几何形状改变的情况；(d)主处理过程包括：除去玻璃表面的水及涂上一层粘合剂或增透膜层作进一步处理。

主权项

1、用于精密光学系统或光学部件的无放射性清洗方法，其特征在于以下方法步骤：(a)、预处理过程由以下工艺步骤组成： (a1)、在装有添加了表面活性剂作为去污剂的缓冲自来水清洗槽中进行清洗，在此借助于附加精过滤建立一个槽的环流，并利用特别是频率和振幅可变的超声波施加影响； (a2)、用不含去污剂的缓冲自来水冲洗，与此同时对新鲜水进行精过滤，并同样利用工艺步骤(a1)中的超声波施加影响； (a3)、按工艺步骤(a1)重新清洗； (a4)、按工艺步骤(a2)重新进行冲洗； (a5)、借助工艺步骤(a1)中超声波的作用，用缓冲去离子水清洗； (a6)、在对新鲜水进行精过滤的同时，用去离子水喷淋；(b)、将有机杂质以及残留的表面活性剂分解或转化成二氧化碳，这是借助于 (b1)、短波紫外线辐射或者是 (b2)、高加速度的电子或者 (b3)、辉光放电在产生或保持 (b4)、无压力的氧气氛或者 (b5)、总计达5巴压力下的氧气氛或者 (b6)、无压力的臭氧气氛或者 (b7)、总计达2巴压力下的臭氧气氛的条件下进行的；(c)、按以下项目检查由玻璃构成的光学系统或光学部件的界面： (c1)、与有机基的反应， (c2)、玻璃表面上的分解反应， (c3)、玻璃表面几何形状的改变；(d)、主处理过程由下述工艺步骤组成： (d1)、借助于在工艺步骤(a)和(b)的条件下在玻璃表面上形成厚度为10nm和100nm之间的膜层的不挥发不溶于水的活性物质，或者是借助于在工艺步骤(b)的条件下容易分解的不挥发不溶于水的物质除去玻璃表面上的水； (d2)、借助于紫外线或电子辐射形成的膜覆盖该表面； (d3)、表面镀膜是通过辉光放电将表面覆盖层分解为金属氧化物、或者是通过辉光放电使表面覆盖层活化来实现的。