Process of fabrication of thin-film polycristalline silicon solar cells.

摘要

Zur Herstellung kostengünstiger, hocheffizienter und besonders dünner polykristalliner Silizium-Dünnschicht-Solarzellen wird vorgeschlagen, auf amorphen Substraten eine Siliziumkeimschicht zu erzeugen, und diese selektiv zurückzuätzen, bis einheitlich⟨111⟩orientierte Keime verbleiben. Eine darüber aufgewachsene Siliziumdünnschicht ist grobkristallin, hat senkrecht zum Substrat stehende Korngrenzen und weist aufgrund der einheitlichen Orientierung eine pyramidenförmig strukturierte Oberfläche auf. Mit daraus hergestellten Solarzellen lassen sich bereits ab 10 µm Schichtdicke hohe Photoströme erzielen.