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发明名称 FORMATION METHOD OF POLYCRYSTALLINE SILICON FILM
摘要
申请公布号 JPH05109617(A) 申请公布日期 1993.04.30
申请号 JP19910269469 申请日期 1991.10.17
申请人 NEC CORP 发明人 OGURA ATSUSHI
分类号 H01L21/20 主分类号 H01L21/20
代理机构 代理人
主权项
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