| 发明名称 |
ALIGNMENT MARKET FOR ELECTRON-BEAM DIRECT LITHOGRAPHIC USE AND ITS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH05102020(A) |
申请公布日期 |
1993.04.23 |
| 申请号 |
JP19910290680 |
申请日期 |
1991.10.09 |
| 申请人 |
AGENCY OF IND SCIENCE & TECHNOL |
发明人 |
AOYANAGI MASAHIRO;NAKAGAWA HIROSHI;KUROSAWA ITARU;TAKADA SUSUMU |
| 分类号 |
H01L21/027;H01L21/30;H01L39/24 |
主分类号 |
H01L21/027 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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