| 发明名称 |
MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE AND SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH0594928(A) |
申请公布日期 |
1993.04.16 |
| 申请号 |
JP19910253899 |
申请日期 |
1991.10.01 |
| 申请人 |
TOSHIBA CORP |
发明人 |
YOSHIKAWA SUSUMU;SUDO AKIRA |
| 分类号 |
H01L21/02;H01L21/18;H01L21/316;H01L21/762;H01L21/8238;H01L27/092;H01L27/11 |
主分类号 |
H01L21/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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