发明名称 气体浸炭方法及其装置
摘要
申请公布号 TW036321 申请公布日期 1981.04.01
申请号 TW06910964 申请日期 1980.04.03
申请人 岛津制作所股份有限公司 发明人
分类号 C01B3/38 主分类号 C01B3/38
代理机构 代理人 涂芳辉 台北巿馆前路二十号六楼
主权项 1﹒将能发生载气(Carriergas)的有机液体滴注于炉内,使将浸炭气体的天然瓦新(Prop─ane=丙烷气)供给于炉内,而为使前记有机液体之供给量与天然瓦斯供给量,使浸炭气体之炭素位能(Potential)能达到目标値,并且,为了抑制由于天然瓦斯之形成煤烟,一面加以控制一面予以供给为其特征之气体浸炭方法。2﹒把载气发生用的有机液体之滴注供给机构与天然瓦斯供给导入机构与浸炭炉合并设置,同时设置能促进天然瓦斯之分解反应而含有多量镍之金属触媒体于炉内为其特征之气体浸炭装置。
地址 京都府京都巿中京区西京桑原町一番地