DISPOSITIVO PARA LA EVAPORACION BAJO VACIO DE UN METAL EN CONTINUO.

摘要

EL SUSTRATO A REVESTIR (12) DESFILA EN EL INTERIOR DE UN RECINTO A VACIO (10). EL MATERIAL A DEPOSITAR (52) ESTA ALMACENADO EN UN TANQUE (50) CERRADO EN SU PARTE INFERIOR POR UNA PLACA (54). UN CABLE (42) UNE AQUELLA A UNA VALVULA (40) QUE CIERRA EL ORIFICIO DE ALIMENTACION DE UN CRISOL (18) CALENTADO A UNA TEMPERATURA QUE PERMITE LA EVAPORACION DEL MATERIAL (52). UN DISPOSITIVO DE MANDO (62) CON ELECTROIMANES PERMITE HACER BASCULAR LA PLACA (54) Y BAJAR LA VALVULA (40); UNA CIERTA CANTIDAD DE POLVO CAE EN EL CRISOL Y DESPUES LA PLACA (54) Y LA VALVULA (40) SE LLEVAN A LA POSICION DE CIERRE. UNA REJILLA (32) CUYAS MALLAS TIENEN DIMENSIONES INFERIORES A AQUELLAS DE LOS GRANOS DE POLVO PRESENTES EN EL CRISOL PERMITE EL PASO DEL VAPOR Y EL DEPOSITO SOBRE EL SUSTRATO (12). APLICACION A LA REALIZACION DE FIBRAS DE CARBONO RECUBIERTAS DE MAGNESIO.