Method for producing a bottom-resist.

摘要

Ein Bottom-Resist für ein Zweilagen-O2/RIE-System erfüllt dann alle an einen derartigen Resist gestellten Anforderungen, wenn er in der Weise erzeugt wird, daß auf ein Substrat eine Lackschicht aus einem aromatenhaltigen Basispolymer, einem Vernetzer und einem Säurebildner aufgebracht wird, daß die Lackschicht - zur Freisetzung einer starken Säure aus dem Säurebildner im Oberflächenbereich der Schicht - flutbelichtet wird, und daß thermisch gehärtet wird.