| 发明名称 |
APPARATUS FOR PLASMA-INTENSIFIED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH0565652(A) |
申请公布日期 |
1993.03.19 |
| 申请号 |
JP19920053748 |
申请日期 |
1992.03.12 |
| 申请人 |
BOC GROUP INC:THE |
发明人 |
MIRAN PENDAA;JIYOSEFU KANTORIIUTSUDO |
| 分类号 |
C23C16/50;C03C17/00;C23C16/44;C23C16/455;C23C16/509 |
主分类号 |
C23C16/50 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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