| 发明名称 |
METHOD AND APPARATUS FOR MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR LAYER |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH0567578(A) |
申请公布日期 |
1993.03.19 |
| 申请号 |
JP19910229279 |
申请日期 |
1991.09.10 |
| 申请人 |
FUJITSU LTD |
发明人 |
KATO KIYOKO;YAMAWAKI HIDEKI |
| 分类号 |
C30B19/06;C30B19/12;H01L21/208 |
主分类号 |
C30B19/06 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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