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发明名称 Photosensitive polyamic alkyl ester composition and process for its use.
摘要 <p>The present invention relates to photosensitive negative and positive tone compositions for imagewise deposition of polyimide on a substrate.</p>
申请公布号 EP0532183(A2) 申请公布日期 1993.03.17
申请号 EP19920307453 申请日期 1992.08.14
申请人 INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION 发明人 LABADIE, JEFFREY WILLIAM;MCKEAN, DENNIS RICHARD;VOLKSEN, WILLI;WALLRAFF, GREGORY MICHAEL
分类号 G03F7/004;G03F7/038;G03F7/039;G03F7/38;H01L21/027 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
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