摘要 |
Verfahren zur Herstellung von Säurehalogeniden der allgemeinen Formel I <IMAGE> in der R¹: C3- bis C8-Cycloalkyl, C4- bis C20-Cycloalkyl-alkyl oder gegebenenfalls durch C2- bis C4-Acyl und/oder C2- bis C4-Acyloxy ein- bis dreifach substituiertes C1- bis C30-Alkyl, C2- bis C20-Alkenyl, C2- bis C20-Alkinyl oder gegebenenfalls durch C1- bis C4-Alkyl, C1- bis C4-Alkoxy, Halogen, Nitro, Cyano, C2- bis C8-Dialkylamino, C2- bis C4-Acyl und/oder C2- bis C4-Acyloxy ein- bis dreifach substituiertes Aryl, C7- bis C20-Aralkyl, Heterocycloalkyl oder C3- bis C20-Heterocycloalkyl-alkyl und; X: Chlor oder Brom bedeuten, durch Umsetzung von Carbonsäuren der allgemeinen Formel II <IMAGE> in der R¹ die oben genannten Bedeutungen hat, oder deren Anhydriden mit einem anorganischen Säurehalogenid der allgemeinen Formel III O = AX2 (III), in der A: Kohlenstoff oder Schwefel bedeutet und X die oben genannten Bedeutungen hat, indem man die Umsetzung bei Temperaturen von 40 bis 180°C in Gegenwart einer ungesättigten Stickstoffverbindung durchführt.
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申请人 |
BASF AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
WETTLING, THOMAS, DR.;HENKELMANN, JOCHEM, DR.;TROETSCH-SCHALLER, IRENE, DR.;HUPFER, LEOPOLD, DR.;FRANZISCHKA, WOLFGANG, DR.;KOEHLER, HERMANN, DR. |