| 发明名称 |
LOW TEMPERATURE REACTIVE ION ETCHING DEVICE |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
JPH0562939(A) |
申请公布日期 |
1993.03.12 |
| 申请号 |
JP19910248400 |
申请日期 |
1991.09.03 |
| 申请人 |
SONY CORP |
发明人 |
SHIROSAKI TOMOHIDE;SANO HIROMI;YAMAMOTO MASANOBU;WATANABE HIDETOSHI |
| 分类号 |
H01L21/302;H01L21/3065;H05H1/46 |
主分类号 |
H01L21/302 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
