| 发明名称 |
METHOD FOR FORMING SILICON OXIDE FILM AND FILM FORMING DEVICE USED THEREFOR |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH0547747(A) |
申请公布日期 |
1993.02.26 |
| 申请号 |
JP19910225380 |
申请日期 |
1991.08.12 |
| 申请人 |
TOSHIBA CORP |
发明人 |
KODERA MASAKO;WATASE MASAMI;OKUMURA KATSUYA;MISHIMA SHIRO |
| 分类号 |
C01B33/12;H01L21/00;H01L21/316 |
主分类号 |
C01B33/12 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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