| 发明名称 |
PLASMA PROCESSING METHOD AND APPARATUS THEREFOR |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH0547712(A) |
申请公布日期 |
1993.02.26 |
| 申请号 |
JP19910201717 |
申请日期 |
1991.08.12 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
ENAMI HIROMITSU;YAGI KIYOMI;KATSUYAMA MASANORI;KONNO AKIHIKO |
| 分类号 |
C23C16/50;C23C16/44;C23C16/511;C23F4/00;H01J37/32;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/31;H01L21/311;H01L21/3213;H05H1/46 |
主分类号 |
C23C16/50 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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