VERFAHREN ZUM HERSTELLEN OXYDISCH SUPRALEITENDER SCHICHTEN UND OXYDISCH SUPRALEITENDE STRUKTUREN MIT DERARTIGEN SCHICHTEN.,申请号DE19920102272T-传众专利搜索

发明名称	VERFAHREN ZUM HERSTELLEN OXYDISCH SUPRALEITENDER SCHICHTEN UND OXYDISCH SUPRALEITENDE STRUKTUREN MIT DERARTIGEN SCHICHTEN.
摘要
申请公布号	DE508060(T1)	申请公布日期	1993.02.25
申请号	DE19920102272T	申请日期	1992.02.11
申请人	HITACHI, LTD., TOKIO/TOKYO, JP;NGK SPARK PLUG CO., LTD., NAGOYA, AICHI, JP;INTERNATIONAL SUPERCONDUCTIVITY TECHNOLOGY CENTER, TOKIO/TOKYO, JP	发明人	USHIDA, C/O SUPERCONDUCTIVITY RES. LAB., TAKAHISA;HIGASHIYAMA, C/O SUPERCONDUCT. RES. LAB, KAZUTOSHI;HIRABAYASHI, C/O SUPERCONDUCTIVITY RES. LAB, IZUMI;TANAKA, C/O SUPERCONDUCTIVITY RES. LAB, SHOJI, 2-CHOME, ATSUTA-KU, NAGOYA-SHI, AICHI, JP
分类号	H01L39/24;(IPC1-7):H01L39/24;C04B35/00	主分类号	H01L39/24
代理机构		代理人
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