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1﹒一种制备式(Ⅲ),杂环三级胺之方法:式中A为氮 原子或C-R,B 为氮原子或C-R6,--为单键或双键,且R1,R2,R3,R4, R5及R6各可相同或相异且为氢原子,C1-6烷氧碳基,其 可经取代 (取代基为羟基,卤原子,氰基,硝基,羟基,甲醯基,低 烷氧基,低烷 硫基,低烷氧碳基,醯基,苯醯基,二低烷胺基,低烷 亚磺醯基,低烷磺 醯基,苯基,苯氧基或苯硫基),C1-6烷基,其可经取代( 取代基为 烃基,卤素原子,氰基,硝基,羧基,甲醯基,低烷氧基, 低烷硫基,低 烷氧碳基,醯基,苯醯基,二低烷胺基,低烷亚磺醯基 ,低烷磺醯基,苯 基,苯氧基或苯硫基),且R7为C1-6烷基,其可经取代( 取代基为 羟基,卤素原子,氰基,硝基,羧基,甲醯基,低烷氧基, 低烷硫基,低 烷氧碳基,醯基,苯醯基,二低烷胺基,低烷亚磺醯基 ,低烷磺醯基,三 烷基甲矽烷基,苯基,苯氧基或苯硫基),或C2-6烯基, 其可经取代 (取代基为羟基,卤素原子,氰基,硝基,羧基,甲醯基, 低烷氧基,低 烷硫基,低烷氧碳基,醯基,苯醯基,二低烷胺基,低 烷亚磺醯基,低烷 磺醯基,三烷其中矽烷基,苯基,苯氧基或苯硫基), 该法包括令式(Ⅰ )之杂环二级胺:式中A,B,--,R1;R2,R3及R4如上定义 ,与式(Ⅱ)之烷基化剂:R7-X式中R7如上定义,且X为羟 基,或 胺基,在钉触媒,铑触媒与铱触媒存在下反应。 2﹒如申请专利范围第1项之方法,其中铑触媒为气 化铑而铱触媒为录化铱。 3﹒如申请专利范围第1项之方法,其中钌触媒选自 二氯三(三苯膦)钌,二 氡三(三-n-丁亚磷酸)钌,二氯三(三-n-内亚磷酸)钌, 二氯三 (三-i-丙亚磷酸)钌,二氯三(三二亚磷酸)钌,二氯三( 三丁膦) 钌,二氯三(三甲苯膦)钌,三氯化钌,碳基盐酸根络 三(三苯膦)钌, 羰基盐酸根络三(三-n-丁膦)钌,嵌基盐酸根络三(三 苯亚磷酸)钌 ,羰基盐酸根络三(3-n-丁亚磷酸)钌,碳基盐酸根络 三(三-n- 丙亚磷酸)钌,碳基盐酸根络三(三-i-丙亚磷酸)钌, 碳基盐酸根络 三(三乙亚磷酸)钌,碳基二氢三(三苯膦)钌,羰基二 氢三(三-n- 丁膦)钌,碳基二氢三(三苯亚磷酸)钌,碳基二氢三( 三-n-丁亚磷 酸)钌,碳基二氢三(三-n-丙亚磷酸)钌,羰基二氢三( 三-i-内 亚磷酸)钌,碳基二氢三(三乙亚磷酸)钌,二氢四(三 苯膦)钌,二氢 四(三-n-丁膦)钌,二氢四(三-n-丁亚磷酸)钌,二氢四( 三- n-丙亚磷酸)钌,二氢四(三-i-内亚磷酸)钌及二氢四( 三乙亚磷 酸)钌。 4﹒如申请专利范围第2或3项之方法,其中添加选自 三烷基膦,三芳基膦, 亚磷酸三烷酯及亚磷酸三芳酯之配体。 5﹒如申请专利范围第1项之方法,其中A为C-R5,B为氮 原子,--- 为双键,R3,R5与R7为甲基,R1为氢。 6﹒如申请专利范围第1项之方法,其中A为C-R5,B为氮 原子,--- 为双键,R1与R7为甲基,R5为氢。 7﹒一种制备1-C1-6烷基-1,2,4-三唑之方法,其包括令1 ,2 ,4-三唑与C1-C6烷基醇于选自钌触媒,铑触媒,与铱触 媒存在下 反应,其中C1-6烷基可被选自下列之取代基所取代: 羟基,卤原子, 氰基,硝基,羧基,甲醯基,低烷氧基,低烷硫基,低烷 氧碳基,醯基, 苯醯基,二低烷胺基,低烷亚磺醯基,低烷磺醯基,苯 基,苯氧基或苯硫 基。 |
