| 发明名称 |
FORMING METHOD OF HIGH-MELTING METAL OR HIGH-MELTING METAL SILICIDE FILM |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH0529259(A) |
申请公布日期 |
1993.02.05 |
| 申请号 |
JP19910180745 |
申请日期 |
1991.07.22 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
KOBAYASHI NOBUYOSHI;NAKAMURA YOSHITAKA;GOSHIMA HIDEKAZU;HONMA YOSHIO |
| 分类号 |
H01L21/285;H01L21/28;H01L21/3205;H01L21/768 |
主分类号 |
H01L21/285 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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