CHEMICAL LIQUID PROCESSING DEVICE FOR SEMICONDUCTOR SUBSTRATE,申请号JP19910182794-传众专利搜索

发明名称	CHEMICAL LIQUID PROCESSING DEVICE FOR SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
摘要
申请公布号	JPH0529289(A)	申请公布日期	1993.02.05
申请号	JP19910182794	申请日期	1991.07.24
申请人	NEC KYUSHU LTD	发明人	MIYAZAKI NAMIO
分类号	H01L21/30;H01L21/027;H01L21/304	主分类号	H01L21/30
代理机构		代理人
主权项
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