| 发明名称 |
METHOD FOR VAPOR DEPOSITION OF TUNGSTEN THIN FILM BASED ON PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH0525649(A) |
申请公布日期 |
1993.02.02 |
| 申请号 |
JP19910266294 |
申请日期 |
1991.10.15 |
| 申请人 |
KOREA ADVANCED INST OF SCI TECHNOL |
发明人 |
BIN KOUKI;KIN RIYUUTAE |
| 分类号 |
C23C16/08;C23C16/50;H01L21/285 |
主分类号 |
C23C16/08 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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