| 主权项 |
1.一种用以消毒隐形眼镜以对该隐形眼镜提供有效且迅速的消毒之双组份系统,包括:(a)一种消毒组份,其包括一抗微生物有效量之一氧化剂,当该氧化剂溶于一水性公质内时之浓度为0.00001-1.0w/v%,且该氧化剂系择自包括过酸、过氧化物、N-卤素有机化合物、N-卤素有机化合物的硷金属盐类、亚氯酸盐、二氧化氯和次氯酸盐等的氧化剂,以及一量足以还原该氧化剂的还原剂,当该还原剂溶于一水性介质内时之浓度为0.001-1.@w/v%,且该还原剂系择自包括内卤素化合物、有机卤化物和卤素化合物的硷金属盐类;以及(b)一种中和组份,其包括一可有效还原任何由于该氧化剂和该还原剂反应所产生之残余卤素种类的中和剂,当该还原剂溶于一水性介质内时之浓度为0.001-1.0w/v%,该中和剂系择自包括抗坏血酸及其硷金属盐类、含硫胺基酸、亚硫酸盐、重亚硫酸盐、二羟基顺丁烯二酸、还原酸、5-甲基还原酸、硫代乙醇酸和硫代硫酸盐,当以该双组份系统消毒隐形眼镜时,该氧化剂被该还原剂还原以生成一有效的抗微生物剂,于是该等隐形眼镜为该氧化剂及该被生成的抗微生物剂所消毒。2.如申请专利范围第1项之双组份系统,其中该氧化剂包括一种过氧化物,其选自包括过氧化氢、过氧酸、过氧酯、烷基过氧化物、醯基过氧化物、丁二酸过氧化物、有机氢过氧化盐以及无机氢过氧化盐。3.如申请专利范围第2项之双组份系统,其中该过氧化物包括过碳酸纳。4.如申请专利范围第2项之双组份系统,其中该过氧化物包括过硼酸纳。5.如申请专利范围第1项之双组份系统,其中该氧化剂选自包括N-氯有机化合物和其硷金属盐类。6.如申请专利范围第1项之双组份系统,其中该氧化剂包括二氯三聚异氰酸盐离子。7.如申请专利范围第1项之双组份系统,其中该还原剂包括碘化钾。8.如申请专利范围第1项之双组份系统,其中该中和组成分包括抗坏血酸盐离子。9.如申请专利范围第1项之双组份系统,其中该还原剂和该中和剂被调配成为第一种组成分并且该氧化剂被调配成为第二种组成分。10.如申请专利范围第9项之双组份系统,其中该第一种组成分调配成为一种药片,其包括:一个含有中和剂的核心,一包裹该核心的延迟释放套层,以及一含有该还原剂之外层。11.如申请专利范围第9项之双组份系统,其中该第二种组成分被调配成为一种药片。12.如申请专利范围第9项之双组份系统,其中该第二种组成分被调配成为一种液体。13.如申请专利范围第12项之双组份系统,其中该氧化剂包括过氧化氢。14.如申请专利范围第1项之双组份系统,其中该消毒组份和该中和组份被调配成为单一组成分。15.如申请专利范围第14项之双组份系统,其中该单一组成被调配成为一种药片,其包括:一个含有中和剂的核心,一个包裹该核心的延迟释放套层,一包含该还原剂的第一外层,此第一外层包住核心和套层,及包含该氧化剂的第二外屠,此第二外层包住第一外层。16.如申请专利范围第1项之双组份系统,其中该氧化剂、该还原剂和该中和剂分别调配成为分开的组成分。17.一种消毒隐形眼镜的方法,其包括:将待消毒境片置于含有下列各成分的水溶液中:一种抗微生物有效量之氧化剂,其选自包括过酸类、过氧化物、N-卤化有机化合物、N-卤化有机化合物的硷金属盐类、亚氯酸盐、二氧化氯以及次氯酸盐,以及一种可还原该氧化剂之有效量还原剂,该还原剂选自包括内卤素化合物、有机卤化物和卤素化合物的硷金属盐类;令该氧化剂和澴原剂进行反应,以及将一量足以有效地还原由于氧化剂和还原剂反应所造成之任何残余卤素种类的中和剂释放至该溶液中,该中和剂系选自包括抗坏血酸、抗坏血酸的硷金属盐类、含硫胺基酸、亚硫酸盐、重亚硫酸盐、二羟基顺丁烯二酸、还原酸、5-甲基还原酸、硫乙醇酸盐和硫代硫酸盐。18.如申请专利范围第17项之方法,其中该氧化剂在水溶液中的浓度系为约0.00001-1.0 wt/v%。19.如申请专利范围第17项之方法,其中该还原剂在水溶液中的浓度系为约0.001-1.0 wt/v%。20.如申请专利范围第17项之方法,其中该氧化剂包含一种过氧化物,其选自包括过氧化氢、过氧酸、过氧酯、烷基过氧化物、醯基过氧化物、丁二酸过氧化物、有机氢过氧化盐以及无机氢过氧化盐。21.如申请专利范围第20项之方法,其中该过氧化物选自包括过氧化氢、过碳酸钠和过硼酸钠。22.如申请专利范围第17项之方法,其中该氧化剂系选自包括N-氯有机化合物和其硷金属盐类。23.如申请专利范围第22项之方法,其中该氧化剂包括二氯三聚异氰酸盐离子。24.如申请专利范围第17项之方法,其中该还原剂包括碘化钾。25.如申请专利范围第17项之方法,其中该中和剂包括抗坏血酸盐离子。26.一种用以消毒隐形眼镜以对该隐形眼镜提供有效且迅速的消毒之双组份系统,包括:(a)一种消毒组份,其包括一抗微生物有效量之一氧化剂,当该氧化剂溶于一水性介质内时之浓度为0.00001-1.0w/v%,且该氧化剂系择自包括过氧化氢、过氧酸、过氧酯、烷基过氧化物、丁二酸过氧化物、有机与无机氢过氧化物、二氯氢尿酸酯、硷金属次氯酸盐或二氧化氯,以及一量足以还原该氧化剂的还原剂,当该还原剂溶于一水性介质内时之浓度为0.001-1.0w/v%,且该还原剂系择自包括有机卤化物和卤素化合物的硷金属盐类;以及(b)一种中和组份,其包括一可有效还原任何由于该氧化剂和该还原剂反应所产生之残余卤素种类的中和剂,当该还原剂溶于一水性介质内时之浓度为0.001-1.0w/v%,该中和剂系择自包括抗坏血酸及其硷金属盐类、含硫胺基酸、亚硫酸盐、重亚硫酸盐、二羟基顺丁烯二酸、还原酸、5-甲基还原酸、硫代乙醇酸和硫代硫酸盐;当以该双组份系统消毒隐形眼镜时,该氧化剂被该还原剂还原以生成一有效的抗微生物剂,于是该等隐形眼 |
