首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 VERFAHREN ZUM REAKTIVEN AETZEN EINER POLYMERSCHICHT.
摘要 <p>A polymeric halocarbon is used as an etch barrier for plasma etching in a process to make high resolution, high aspect ratio polymer patterns.</p>
申请公布号 DE3486011(D1) 申请公布日期 1993.01.28
申请号 DE19843486011 申请日期 1984.08.29
申请人 INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORP., ARMONK, N.Y., US 发明人 HIRAOKA, HIROYUKI, SARATOGA CALIFORNIA 95070, US
分类号 C23C14/12;C23F1/00;C23F1/02;G03F1/20;G03F7/09;H01L21/027;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/311;(IPC1-7):H01L21/312;H01L21/306 主分类号 C23C14/12
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com